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  • 中广核技实现硅光电倍增器国产化突破,器件良率超90%:光电器件

    中广核技实现硅光电倍增器国产化突破,器件良率超90%:光电器件

    产品展示 # 良率超 # 90良率超 # 90 # 光电器件

    深圳商报•读创客户端记者张妍近日,我国高性能硅光电倍增器(SiPM)国产化取得重大突破光电器件。记者从中广核核技术发展有限公司(以下简称“中广核技”)获悉,由其旗下中广核京师光电科技(天津)有限公

    2025-09-13
  • 中广核技实现硅光电倍增器国产化突破 器件良率超90%:光电器件

    中广核技实现硅光电倍增器国产化突破 器件良率超90%:光电器件

    产品展示 # 良率超 # 90良率超 # 90 # 光电器件

    中证报中证网讯(记者刘丽靓)据中广核6月24日消息,近日,我国高性能硅光电倍增器(SiPM)国产化取得重大突破,由中广核技旗下中京光电打造的SiPM封装产线成功通线,并提前达成器件良率超90%的目标

    2025-09-13
  • 波长光电32%毛利,国产光学器件如何撕开ASML护城河?:光电器件

    波长光电32%毛利,国产光学器件如何撕开ASML护城河?:光电器件

    新闻资讯 # 何撕开 # 毛利 # ASML # 32何撕开 # 32 # 光电器件

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    2025-09-13
  • 我国高性能硅光电倍增器(SiPM)国产化突破,器件良率超90%:光电器件

    我国高性能硅光电倍增器(SiPM)国产化突破,器件良率超90%:光电器件

    新闻资讯 # 高性能 # 良率超 # SiPM # 90高性能 # 90 # 光电器件

    澎湃新闻6月24日从中广核核技术发展有限公司获悉,由其旗下中广核京师光电科技(天津)有限公司打造的SiPM封装产线成功通线,并提前达成器件良率超90%的目标,标志着国内高性能SiPM产品实现关键自主化

    2025-09-13
  • 成都紫光半导体申请半导体元件的形成方法和半导体元件专利,本公开涉及一种半导体元件的形成方法和半导体元件:半导体

    成都紫光半导体申请半导体元件的形成方法和半导体元件专利,本公开涉及一种半导体元件的形成方法和半导体元件:半导体

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    金融界2025年6月17日消息,国家知识产权局信息显示,成都紫光半导体科技有限公司申请一项名为“半导体元件的形成方法和半导体元件”的专利,公开号CN120166763A,申请日期为2023年12月半导

    2025-09-13
  • 群创光电申请半导体晶片与半导体装置专利,本发明公开一种半导体晶片与半导体装置:半导体

    群创光电申请半导体晶片与半导体装置专利,本发明公开一种半导体晶片与半导体装置:半导体

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    金融界2025年6月23日消息,国家知识产权局信息显示,群创光电股份有限公司申请一项名为“半导体晶片与半导体装置”的专利,公开号CN120187183A,申请日期为2024年11月半导体。专利摘要

    2025-09-13
  • 安靠科技申请半导体装置和制造半导体装置的方法专利,提供半导体装置及制造半导体装置的方法:半导体

    安靠科技申请半导体装置和制造半导体装置的方法专利,提供半导体装置及制造半导体装置的方法:半导体

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    金融界2025年7月12日消息,国家知识产权局信息显示,安靠科技新加坡控股私人有限公司申请一项名为“半导体装置和制造半导体装置的方法”的专利,公开号CN120300093A,申请日期为2020年12月

    2025-09-13
  • 紫光半导体申请制备半导体元件的方法和得到的半导体元件专利,提高半导体元件的生产效率:半导体

    紫光半导体申请制备半导体元件的方法和得到的半导体元件专利,提高半导体元件的生产效率:半导体

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    金融界2025年6月17日消息,国家知识产权局信息显示,成都紫光半导体科技有限公司申请一项名为“制备半导体元件的方法和得到的半导体元件”的专利,公开号CN120164784A,申请日期为2023年12

    2025-09-13
  • 爱思开海力士申请半导体装置及制造半导体装置的方法专利,涉及半导体装置及制造半导体装置的方法:半导体

    爱思开海力士申请半导体装置及制造半导体装置的方法专利,涉及半导体装置及制造半导体装置的方法:半导体

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    金融界2025年8月20日消息,国家知识产权局信息显示,爱思开海力士有限公司申请一项名为“半导体装置及制造半导体装置的方法”的专利,公开号CN120512894A,申请日期为2024年07月半导体。

    2025-09-13
  • 成都紫光半导体申请半导体元件的形成方法和半导体元件专利,提供一种半导体元件的形成方法:半导体

    成都紫光半导体申请半导体元件的形成方法和半导体元件专利,提供一种半导体元件的形成方法:半导体

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    金融界2025年6月18日消息,国家知识产权局信息显示,成都紫光半导体科技有限公司申请一项名为“半导体元件的形成方法和半导体元件”的专利,公开号CN120164841A,申请日期为2023年12月半导

    2025-09-13
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